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英特尔 High-NA EUV 晶圆处理量破百万
英特尔于当地时间周一宣布,其采用 High-NA EUV 光刻设备处理的 **300mm 晶圆累计突破一百万片**。这一里程碑距离首台设备完成组装还不到两年半——2025 年 2 月累计约 3 万片,如今已超百万片。(c1)(c2)
按 ASML 2026 年 4 月 Q1 财报口径,当时全球所有 High-NA EUV 系统累计处理晶圆刚过 50 万片,意味着**英特尔一家的处理量已超过行业其余用户总和**。英特尔目前拥有两台 ASML Twinscan EXE:5000 原型机和至少一台 EXE:5200B 量产机型,该技术正用于生产 Panther Lake 系列酷睿 Ultra 处理器。(c3)
💡 为什么值得看High-NA 量产爬坡领先全行业,两年半从 3 万至百万片,值得关注。
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IT 之家
中文科技媒体,转写英特尔官方公告并援引 ASML 财报数据
标题级事实(英特尔官方宣布的百万片数字)可信度较高;但「超越其他厂商总和」是媒体根据 ASML 4 月旧财报数据推算的结论,非官方口径,应作推断看待
延伸阅读
正文后半段提到 High-NA 受 6×6 英寸光罩拼接限制,英特尔正牵头推 6×12 英寸方案,涉及整个光罩生态重构——这是量产爬坡之外同等重要的技术路线信号